| 摘要 |
<p>본 고안은 반도체 제조 장비용 후방흡입밸브에 관한 것으로서, 일단에 형성된 분사노즐에 케미컬이 공급되는 케미컬유관과; 상기 케미컬유관과 상호 연통되는 흡입공을 형성하는 흡입공벽과; 상기 흡입공벽과 상호 협조적으로 상기 케미컬유관의 케미컬을 상기 흡입공을 통해 흡입하는 케미컬흡입공간을 형성함과 동시에 상기 흡입공벽측 단부가 상기 흡입공벽면에 밀착되어 흡입된 케미컬이 상기 흡입공을 통해 잔류됨이 없이 모두 배출될 수 있도록 상기 흡입공벽의 형상에 대응되도록 형성되는 다이아프램과; 상기 다이아프램이 상기 흡입공벽으로부터 이격되어 상기 케미컬흡입공간내에 상기 케미컬유관의 케미컬이 흡입되도록 하는 후방흡입위치와, 상기 흡입공벽측 단부가 상기 흡입공벽과 밀착되어 상기 흡입된 케미컬이 상기 흡입공을 통해 배출되는 케미컬공급위치간을 구동되도록 하는 다이아프램구동부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 케미컬의 공급시 다이아프램이 흡입공벽에 밀착되어 케미컬흡입공간내에 흡입된 케미컬이 잔류됨이 없이 배출되도록 함으로써 잔류된 케미컬에 기인한 파티클의 발생을 억제시킬 수 있도록 한 반도체 제조 장비용 후방흡입밸브가 제공된다.</p> |
