| 摘要 |
<p>본 고안은 건조챔버내에 웨이퍼가 고정되는 웨이퍼 받침대를 형성하여 웨이퍼를 운반하기 위하여 건조챔버내로 유입되는 이송암에 의한 IPA용액의 밀도 저하를 방지하는 반도체 제조용 웨이퍼 건조장치에 관한 것으로 종래의 웨이퍼 건조 장치는 이송암이 IPA증기층내로 유입된 상태에서 건조작업이 진행되어 외기 온도와 동일한 온도의 이송암과 웨이퍼에 의하여 공정 챔버내의 IPA증기층 온도가 냉각되어 증기화된 IPA층이 옅어지면서 웨이퍼가 대기중에 노출되는 동시에 이송암에 의하여 IPA증기의 흐름이 방해되어 웨이퍼의 표면에 IPA가 고르게 작용하지 못하여 물반점이 생기는 문제점이 있었던바 본 고안은 공정 챔버내에 웨이퍼가 고정되는 웨이퍼 받침대를 형성하여 IPA증기의 원활한 상승을 유도하는 동시에 건조작업중에 투입된 이송암에 의한 온도저하로 IPA증기층의 밀도가 저하되는 것을 사전에 방지하므로써 웨이퍼 표면에 IPA가 균일하게 작용하여 웨이퍼의 물반점 생성을 억제하는 잇점이 있는 반도체 제조용 웨이퍼 건조장치이다.</p> |
