| 发明名称 |
Palladiumhaltiges Precursormaterial und Verfahren zur Herstellung von metallischen Mikrostrukturen auf dielektrischen Substraten mit einem palladiumhaltigen Precursormaterial |
| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Precursormaterial, enthaltend eine Palladiumverbindung in einem organischen Lösungsmittel zur Herstellung von metallischen Mikrostrukturen auf dielektrischen Substraten nach einem Volladditivverfahren, wobei in der zur Schichtbildung verwendeten Lösung mindestens ein Zusatzstoff enthalten ist, der in seinem Eigenabsorptionsbereich eine irreversible photochemische Reaktion zeigt.
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| 申请公布号 |
DE19518512(C2) |
申请公布日期 |
2001.11.29 |
| 申请号 |
DE19951018512 |
申请日期 |
1995.05.19 |
| 申请人 |
FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. |
发明人 |
TOEPPER, MICHAEL;STOLLE, THOMAS;KRABE, DETLEF;CHMIEL, GERHARD;SCHAMMLER, GISELA;REICHL, HERBERT |
| 分类号 |
C23C18/30;H05K3/18;(IPC1-7):G03F7/004;C08L25/06;C08L65/00;C23C18/18;H01L49/00 |
主分类号 |
C23C18/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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