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发明名称 METHOD FOR TREATING NOXIOUS GAS BY LOW TEMPERATURE PLASMA
摘要
申请公布号 KR20010104911(A) 申请公布日期 2001.11.28
申请号 KR20000026135 申请日期 2000.05.16
申请人 KOREA INSTITUTE OF MACHINENRY & MATERIALS 发明人 CHOI, YEON SEOK;KIM, SEOK JUN;LEE, HEON JEONG;SONG, YEONG HUN
分类号 B01D53/32;(IPC1-7):B01D53/32 主分类号 B01D53/32
代理机构 代理人
主权项
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