| 发明名称 |
Polymer for photoresist,photoresist composition containing the same,and preparation method thereof |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2336592(B) |
申请公布日期 |
2001.11.28 |
| 申请号 |
GB19990004021 |
申请日期 |
1999.02.22 |
| 申请人 |
* SAMSUNG ELECTRONICS COMPANY LIMITED |
发明人 |
SANG-JUN * CHOI |
| 分类号 |
G03F7/039;C08F8/12;C08F212/14;C08K5/17;C08K5/42;C08L25/18;G03F7/004;(IPC1-7):C08F212/14;C08F8/00 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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