| 发明名称 |
Method and apparatus for controlling ion implantation during vacuum fluctuation |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
US6323497(B1) |
申请公布日期 |
2001.11.27 |
| 申请号 |
US20000586492 |
申请日期 |
2000.06.02 |
| 申请人 |
VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOC. |
发明人 |
WALTHER STEVEN R. |
| 分类号 |
H01J37/304;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):G21G5/10 |
主分类号 |
H01J37/304 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
