METHOD AND DEVICE FOR TREATING SUBSTRATES

摘要

기판(13)을 균일하게 코팅하기 위하여, 본 발명은 코팅될 기판 표면(15)이 아래쪽으로 향하여 노출되도록 기판(13)이 기판 고정부(5)에 지지되고, 기판(13)을 기판 고정부(5)와 함께 회전시킴으로써 기판을 코팅하는 장치 및 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 장치 및 방법은 커버(20)가 기판 고정부(5)에 고정되어, 기판 고정부(5)와 함께 기판(13)을 수용하기 위한 밀폐 챔버(36)를 형성하는 것을 특징으로 한다.