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发明名称 DC SPUTTERING PROCESS FOR MAKING SMOOTH ELECTRODES AND THIN FILM FERROELECTRIC CAPACITORS HAVING IMPROVED MEMORY RETENTION
摘要
申请公布号 KR20010103555(A) 申请公布日期 2001.11.23
申请号 KR1020007015122 申请日期 2000.12.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/203 主分类号 H01L21/203
代理机构 代理人
主权项
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