发明名称 电感的制作方法
摘要 一种电感的制作方法,系提供一基底,于基底上形成数个条状结构之第一金属层,并覆盖一上表面平坦之第一介电层于基底与第一金属层上,接着形成一具有高导磁系数之第二金属层镶嵌于第一介电层中。接着形成一第二介电层于第二金属层上。再于条状结构之第一金属层两端上方的第一介电层与第二介电层中形成介层窗开口,并将导体材质填入形成插塞,最后再于第二介电层上方形成数个条状的第三金属层,以使第一金属层、插塞以及第三金属层形成一螺旋状之路径。此外,插塞与第三金属层亦可以利用双重金属镶嵌制程同时制作。
申请公布号 TW465079 申请公布日期 2001.11.21
申请号 TW089125788 申请日期 2000.12.04
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 黄恒盛;洪允锭;李东隆;张梦仁
分类号 H01L27/04 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人 詹铭文 台北巿罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种电感的制作方法,至少包括:提供一基底;于该基底上形成复数个具有条状结构之第一金属层;形成一第一介电层于该些第一金属层与该基底上;形成一第二金属层,该第二金属层系嵌入该第一介电层中;形成一第二介电层于该第一介电层与该第二金属层上;于该些条状结构第一金属层两端上方的该第一介电层及、该第二介电支中形成复数个介层窗开口,以暴露出该些第一金属层;将一导体填满该些介层窗开口,以形成复数个插塞;以及形成复数个具有条状结构之第三金属层。2.如申请专利范围第1项所述之电感的制作方法,其中该些条状结构之第一金属层、该些插塞以及该些条状结构之第三金属层所构成之路径为一螺旋状路径。3.如申请专利范围第1项所述之电感的制作方法,其中该第二金属层形成的方法包括:将该第一介电层移除,以形成一沟渠;形成一第三介电层于该沟渠及该第一介电层上;以化学机械研磨的方式将该沟渠以外之该第三介电层研除;形成一第二金属层填满该沟渠中;以及以化学机械研磨方式将该沟渠以外之第二金属层研除。4.如申请专利范围第3项所述之电感的制作方法,其中该第三介电层的形成方法包括以化学气相沈积方式形成。5.一种电感的制作方法,至少包括:提供一基底;于该基底上形成复数个条状结构之第一金属层;形成一第一介电层于该些第一金属层与该基底上;形成一第二金属层,该第二金属层系嵌入该第一介电层中;形成一第二介电层于该第一介电层与该第二金属层上;以及以双重金属镶嵌制程,于该第一介电层、第二介电层中形成复数个条状结构之第三金属层与复数个插塞。6.如申请专利范围第5项所述之电感的制作方法,其中该些条状结构之第一金属层、该些插塞以及该些条状结构之第三金属层所构成之路径为一螺旋状路径。7.如申请专利范围第5项所述之电感的制作方法,其中该第二金属层形成的方法包括:将该第一介电层移除,以形成一沟渠;形成一第三介电层于该沟渠及该第一介电层上;以化学机械研磨的方式将该沟渠以外之该第三介电层研除;形成一第二金属层填满该沟渠中;以及以化学机械研磨方式将该沟渠以久之第二金属层研除。8.如申请专利范围第7项所述之电感的制作方法,其中该第三介电层的形成方法包括以化学气相沈积方式形成。图式简单说明:第一图至第五图绘示为习知具有螺旋状线圈电感的制作流程剖面图;第六图至第九图绘示依照本发明一较佳实施例电感的制作流程图;以及第十图绘示为双重金属镶嵌制程(Dual damascene)同时制作第三金属层与介层窗开口之剖面示意图。
地址 新竹科学工业园区新竹市力行二路三号