| 主权项 |
1.一种主要含有光阻剂及四烷基铵离子之光阻剂显像废液之再生处理方法,此方法至少包括膜分离步骤(A),其中使用毫微滤膜(NF膜)来处理该光阻剂显像废液、或处理由该光阻剂显像废液产生之处理溶液,以得到主要含有如光阻剂等杂质之一浓缩物,及主要含有四烷基铵离子之一渗透液者。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该膜分离步骤(A)系以多段方式实行者。3.如申请专利范围第1项之方法,其中由该显像废液产生之该处理溶液为一种由显像废液经过选自下述步骤所组成一群之至少一预处理步骤之处理所得之处理溶液:浓缩处理步骤(a),利用选自逆渗透膜处理、蒸发、电渗析以及电解所组成一群之至少一浓缩方法以得到浓缩物;层析分离步骤(b),利用层析分离方法以得到四烷基铵离子份作为处理溶液;中和+固液分离步骤(c),利用中和作用使光阻剂不溶化而依照固液分离法予以除去;以及离子交换处理步骤(d),利用若干杂质对离子交换剂之藉由互相接触之吸附作用而除去该等若干杂质者。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该光阻剂显像废液或由该光阻剂显像废液产生之该处理溶液之pH在该步骤(A)之前被调整为进入9.5至12范围内之数値者。5.如申请专利范围第1项之方法,其中在该步骤(A)后,使渗透液及/或该浓缩物进一步经过选自下述步骤所组成一群之至少一步骤之处理;离子交换处理步骤(B),利用若干杂质对离子交换树脂之藉由互相接触之吸附作用而除去该等若干杂质;浓缩步骤(C),利用选自逆渗透膜处理及蒸发处理所组成一群之至少一浓缩方法以得到浓缩物;浓缩及纯化步骤(D),利用选自电渗析及电解所组成一群之至少一方法以提高四烷基铵离子之浓度;以及层析分离步骤(E),利用层析分离方法以得到四烷基铵离子份者。6.如申请专利范围第5项之方法,其中均由步骤(A)得到之该浓缩物及该渗透液系在步骤(D)之电渗析及/或电解中各别被用作脱盐液及四烷基铵离子提浓液者。7.如申请专利范围第3或5项之方法,其中步骤(d)用之该离子交换剂及/或步骤(B)用之该离子交换树脂为取氢离子型(H型)及四烷基铵离子型(TAA型)中之至少一型之阴离子交换树脂及/或阳离子交换树脂者。8.如申请专利范围第1项之方法,其中在被包含于从充当再生显像液之氢氧化四烷基铵溶液除去细粒之方法内之系统末端或其附近配置有一膜处理单元者。9.一种光阻剂显像废液之再生处理装置,包括;至少一具有NF膜之毫微滤器,被用以由该光阻剂显像废液或由产生自该光阻剂显像废液之处理溶液得到一主要含有如光阻剂等杂质之浓缩物及一主要含有四烷基铵离子渗透液;及一电渗析或电解单元,包含供该浓缩物通过之用之单一或复数脱盐槽暨供该渗透液通过之用之单一或复数浓缩槽;以及任选地又包括设在本装置之末端或其附近之膜处理单元者。10.一种光阻剂显像废液之再生处理装置,包括:一蒸发或逆渗透膜处理单元;被用以由该光阻剂显像废液或由产生自该光阻剂显像废液之处理溶液得到一浓缩物;至少一毫微滤器,具有供该浓缩物之膜分离用之NF膜;及一离子交换处理单元,以使用离子交换树脂来处理藉该至少一毫微滤器所得到之渗透液;以及任选地又包括设在本装置之末端或其附近之膜处理单元者。图式简单说明:第一图为展示可在本发明之方法中实行之电渗析之原理之图;第二图为展示可在本发明之方法中实行之电解之原理之图;第三图为例示被用于NF膜分离步骤中实行依照本发明之方法之二段法之装置(系统)一例之流程图;第四图为例示被用于NF膜分离步骤中实行依照本发明之方法之二段法之装置(系统)另一例之流程图;第五图为例示被用于NF膜分离步骤中实行第三图所示二段法与第四图所示二段法之组合之装置(系统)一例之流程图;第六图为例示包括毫微滤器与循环型电渗析单元之组合之装置(系统)一例之流程图,该装置可顺利使用于本发明之方法中;以及第七图为例示包括蒸发或逆渗透膜处理单元、毫微滤器、以及离子交换处理单元之组合之装置(系统)一例之流程图,该装置可顺利使用于本发明之方法中。 |
