发明名称 光敏性聚醯亚胺先驱物及其于图案形成之用途
摘要 含有下式重复单位的聚醯亚胺先驱物:CC ...(1)其中R1为含4或更多个碳原子之四价有机基团;R2为含1或更多个芳族环之三价或四价有机基团;R3为单价有机基团;A为显现酸性的单价有机基团;且n为1或2的整数,此先驱物可用于制备在短时间内可用硷性水溶液显像并具有高解离度之高敏性负像作用的高光敏性物质。
申请公布号 TW464790 申请公布日期 2001.11.21
申请号 TW086108339 申请日期 1997.06.16
申请人 日立化成工业股份有限公司 发明人 吉川治彦;片冈文雄;竹元一成;田中顺;矶田敬子;内村俊一郎;锻治诚
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种聚醯亚胺先驱物,其中含下列式(1)的重复单位且重量平均分子量为10,000至200,000:其中R1是一个选自下式的基团:R2是一个选自下式的基团:且Z是一个选自下式的基团:R3系如下式所示:…(5)其中R5是H、R6是H及R7是氢原子或甲基;及R8为二价的有机基团;A是至少一个选自磺酸基、亚磺酸基、羧基及羟基的基团;及n为1或2的整数。2.如申请专利范围第1项之聚醯亚胺先驱物,其中还包含下式的重复单位:…(2)其中R1和R3是如申请专利范围第1项所定义;R4是一个选自下式的基团:当式(1)与(2)中重复单位的总数目看作100时,式(1)重复单位的数目为10或更多,且式(2)重复单位的数目为90或更低。3.如申请专利范围第1或2项之聚醯亚胺先驱物,其中R3系如下式所示:4.一种含下式重复单位之聚醯亚胺:…(10)其中R1.R2.A和n系如申请专利范围第1项所定义;且其重量平均分子量为10,000至200,000。5.一种聚醯亚胺先驱物组成物,其包含:(a)一种如申请专利范围第1或2项所定义之聚醯亚胺先驱物,(b)一非质子性极性溶剂,及(c)一光敏剂或光聚合助剂。6.如申请专利范围第5项之聚醯亚胺先驱物组成物,其含70至99重量%的聚醯亚胺先驱物,以及1至30重量%之含式(24)所示的重复单位之含矽氧烷的聚醯胺酸:…(24)其中R1系如申请专利范围第1项所定义;R11为含1或更多个矽氧烷结构之二价有机基团;R12为含1或更多个矽氧烷结构之二价有机基团;且R13与申请专利范围第1项之R4的定义相同。7.如申请专利范围第6项之聚醯亚胺先驱物组成物,其中含矽氧烷的聚醯胺酸亦含下式的重复单位:…(25)其中R1系如申请专利范围第1项所定义;R13与申请专利范围第1项之R4的定义相同,当式(24)与(25)中重复单位的总数目看作100时,式(24)重复单位的数目为1或更多,且式(25)重复单位的数目为99或更低。8.如申请专利范围第5项之聚醯亚胺先驱物组成物,其中R11为选自下式的基团:且R12为选自下式的基团:其中n为2至12的整数。9.如申请专利范围第5项之聚醯亚胺先驱物组成物,其中含100重量组份的聚醯亚胺先驱物,以及0.1至50重量组份的光敏剂,及0.1至50重量组份的光聚合助剂。图式简单说明:第一图为得自实例1的聚醯亚胺先驱物之1H NMR光谱。第二图为得自实例2的聚醯亚胺先驱物之1H NMR光谱。
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