| 发明名称 | 光学波导装置 | ||
| 摘要 | 本发明提出了一种光学波导装置,其包括:一个衬底,衬底上的一个下覆盖层,下覆盖层上的一个上覆盖层,在所说的覆盖层间的波导元件。衬底对光波导装置的由应力引起的双折射的影响是通过改进波导元件下面的衬底而降低的。 | ||
| 申请公布号 | CN1323404A | 申请公布日期 | 2001.11.21 |
| 申请号 | CN99812089.8 | 申请日期 | 1999.10.01 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | 彼得·布落克;基安－路卡·伯纳;罗兰·W·杰曼恩;福尔克特·霍斯特;依兰娜·玛萨里克;伯特·J·奥弗雷恩;胡布·L·萨尔敏克 |
| 分类号 | G02B6/12 | 主分类号 | G02B6/12 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1．一种光波导装置包括：一个衬底(1)，在衬底之上的下覆盖层(3)，在下覆盖层之上的上覆盖层(5)和在所述覆盖层(3,5)之间的波导元件(4)，其特征在于，通过从所述波导元件(4)下面改进所述衬底(1)，降低了所述衬底(1)对所述光学波导装置中由应力所致双折射的影响。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||