| 发明名称 | 薄膜电阻器的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种薄膜电阻器的制造方法,包括以下各步骤:提供一绝缘基板;以非光刻法在绝缘基板上形成一导体图案层;在导体图案层与绝缘基板上形成一薄膜电阻层;以光刻法将薄膜电阻层图案化。通过本发明的制造方法制造薄膜电阻器,可以降低薄膜电阻器的制造成本。 | ||
| 申请公布号 | CN1323044A | 申请公布日期 | 2001.11.21 |
| 申请号 | CN00108558.1 | 申请日期 | 2000.05.16 |
| 申请人 | 光颉科技股份有限公司 | 发明人 | 林弘彬;郭献章 |
| 分类号 | H01C17/06;H01C17/065;H01C17/075;H01C17/242;H01C17/24;H01L49/02 | 主分类号 | H01C17/06 |
| 代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 李晓舒 |
| 主权项 | 1．一种薄膜电阻器的制造方法，包括以下各步骤：提供一绝缘基板；以非光刻法在该绝缘基板上方形成一导体图案层；在该导体图案层与该绝缘基板上形成一薄膜电阻层；以光刻法将该薄膜电阻层图案化。 | ||
| 地址 | 台湾新竹市 | ||