发明名称 Wafer inspection system for selective inspecting of a conductive pattern defects method thereof
摘要 <p>검사 효율을 높이고, 고집적화 된 반도체 소자의 검사에 적합한 웨이퍼 검사 시스템 및 그 검사방법에 관해 개시한다. 이를 위하여 본 발명은 웨이퍼 표면을 비접촉 방식으로 스캔닝(scanning)하는 센서부 및 센서부와 연결되어 센서부에서 얻은 신호를 전기적 특성으로 변환하는 RLC 회로부를 포함하는 도전성 패턴 결함을 선택적으로 검사하는 장치와, 도전성 패턴 결함을 선택적으로 검사하는 장치와 연결된 이미지 처리 컴퓨터를 구비하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검사 시스템 및 이를 이용한 검사방법에 관해 개시한다. 따라서 탐지된 결함중에서 도전성 결함만을 선별적으로 추출함으로써 검사효율을 높일 수 있다.</p>
申请公布号 KR100314131(B1) 申请公布日期 2001.11.15
申请号 KR19990044896 申请日期 1999.10.16
申请人 null, null 发明人 전충삼;현필식
分类号 H01L21/66;G01R31/311;H01L21/00 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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