| 发明名称 |
AN ELECTRON GUN USED IN AN ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS |
| 摘要 |
<p>전자빔 노출 장치에 사용되는 전자총, 바람직하게는 4극 전자총은, 네가티브의 높은 가속 전압을 인가할 때 전자빔을 방사하기 위한 캐소드; 상기 캐소드에 대해 역 방향 바이어스되는 전압을 인가할 때 전자빔의 크로스오버(crossover) 이미지를 집중시키기 위해 상기 캐소드의 하부에 제공되는 제 1 그리드로서, 상기 캐소드와 상기 제 1 그리드는 고전압 인슐레이터의 고전압 측부에 배치되는, 상기 제 1 그리드와; 상기 제 1 그리드를 통해 지나는 상기 전자빔을 집중하며 상기 고전압 인슐레이터의 저전압 측부에 배치되기 위한 애노드(anode)와; 그리고 상기 고전압 인슐레이터의 고전압 측부에 및 상기 제 1 그리드와 상기 애노드의 사이에 제공되며, 개구를 통해 지나는 전자빔의 양을 제한하기 위해 개구를 갖는 제 2 그리드에 의해서 형성된다. 상기 캐소드에 대해 순방향 바이어스가 되는 전압은 상기 제 2 그리드에 인가되며, 상기 크로스오버 이미지는 상기 제 2 그리드의 개구에 집중된다.</p> |
| 申请公布号 |
KR100313845(B1) |
申请公布日期 |
2001.11.15 |
| 申请号 |
KR19990020390 |
申请日期 |
1999.06.03 |
| 申请人 |
null, null |
发明人 |
우애,요시히사;사토,다까마사;야마다,아끼오;야수다,히로시 |
| 分类号 |
H01J37/06;H01J29/48;H01J37/24;H01L21/027 |
主分类号 |
H01J37/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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