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发明名称 WAFER PROCESSING REACTOR HAVING A GAS FLOW CONTROL SYSTEM AND METHOD
摘要
申请公布号 KR20010101946(A) 申请公布日期 2001.11.15
申请号 KR1020017009763 申请日期 2001.08.02
申请人 发明人
分类号 C23C16/52 主分类号 C23C16/52
代理机构 代理人
主权项
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