| 摘要 |
도전 금속 코팅 재료는, 마그네트론 스퍼터링 타겟(51)으로부터 스퍼터되고, 타겟(51)내의 개구(58)의 중심에서 실의 벽(32)내의 유전 윈도우 뒤의 진공실(31) 외측의 코일(65)로부터 결합된 RF 에너지를 가진 조밀한 플라즈마에 의해 처리 스페이스내에서 이온화된다. 실의 압력은 10-100 mTorr 범위내에 있다. 실의 벽(32) 뒤의 영구 자석(23)의 어레이(22)로 형성된 자기 버킷(20)은 플라즈마에서 실의 벽(32)으로 이동하는 전하 입자를 반발시키는 멀티-커스프 자계를 형성하고, 플라즈마 제한을 증가시켜, 플라즈마 밀도 및 균일도와 코팅 재료의 이온화 부분을 개선한다. |
