| 发明名称 | 废溶剂的再生方法和装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及已用于溶解保持性树脂组分或者含有在半导体或液晶基体制造时分离在基体上的保护性树脂的过程中废弃的树脂组分的使用过的溶剂的再生方法,其中包括除去树脂组分、除去挥发性杂质如水并对溶剂进行精炼的步骤。首先进行除去树脂组分的步骤。在精炼过的溶剂最终蒸发后,再生的溶剂以冷凝溶剂形态回收。还叙述了用于实施这种方法的装置。 | ||
| 申请公布号 | CN1322005A | 申请公布日期 | 2001.11.14 |
| 申请号 | CN01117166.9 | 申请日期 | 2001.04.27 |
| 申请人 | 松下环境空调工程技术株式会社;日本瑞环株式会社 | 发明人 | 五十岚轨雄;井上恭;山口典生;增田义登;川濑泰人;青岛芳芝;小田昭昌 |
| 分类号 | H01L21/00;B09B5/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王杰 |
| 主权项 | 1．使用过的溶剂的再生方法，其中包括：从含有树脂组分的使用过的溶剂中除去树脂组分，除去挥发性杂质和精炼溶剂，其中首先进行除去树脂组分的步骤，在完全蒸发出溶剂后回收呈冷凝溶剂形式的再生溶剂。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||