发明名称 Standard for a nanotopography apparatus and method for the production thereof
摘要 Gegenstand der Erfindung ist ein Standard zum Kalibrieren und Überprüfen eines Nanotopographie-Geräts, umfassend ein Substrat und mindestens eine auf dem Substrat abgeschiedene Struktur mit einer lateralen Ausdehnung von 0,5 bis 20 mm und einer vertikalen Ausdehnung von 5 bis 500 nm, die von Flanken begrenzt ist, die eine Steigung von höchstens 1*10<-3> aufweisen. Gegenstand der Erfindung ist auch ein Verfahren zur Herstellung des Standards, wobei Material mit einer inhomogenen Abscheiderate auf dem Substrat abgeschieden wird. <IMAGE>
申请公布号 EP1153883(A2) 申请公布日期 2001.11.14
申请号 EP20010109325 申请日期 2001.04.12
申请人 WACKER SILTRONIC<BR>GESELLSCHAFT FUER HALBLEITERMATERIALIEN AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 PASSEK, FRIEDRICH, DR.;SCHAUER, REINHARD;SCHMOLKE, RUEDIGER, DR.;KUMPE, RALF, DR.
分类号 G01N1/00;G01Q30/00;G01Q30/12;G01Q40/02 主分类号 G01N1/00
代理机构 代理人
主权项
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