发明名称 |
Standard for a nanotopography apparatus and method for the production thereof |
摘要 |
Gegenstand der Erfindung ist ein Standard zum Kalibrieren und Überprüfen eines Nanotopographie-Geräts, umfassend ein Substrat und mindestens eine auf dem Substrat abgeschiedene Struktur mit einer lateralen Ausdehnung von 0,5 bis 20 mm und einer vertikalen Ausdehnung von 5 bis 500 nm, die von Flanken begrenzt ist, die eine Steigung von höchstens 1*10<-3> aufweisen. Gegenstand der Erfindung ist auch ein Verfahren zur Herstellung des Standards, wobei Material mit einer inhomogenen Abscheiderate auf dem Substrat abgeschieden wird. <IMAGE> |
申请公布号 |
EP1153883(A2) |
申请公布日期 |
2001.11.14 |
申请号 |
EP20010109325 |
申请日期 |
2001.04.12 |
申请人 |
WACKER SILTRONIC<BR>GESELLSCHAFT FUER HALBLEITERMATERIALIEN AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
PASSEK, FRIEDRICH, DR.;SCHAUER, REINHARD;SCHMOLKE, RUEDIGER, DR.;KUMPE, RALF, DR. |
分类号 |
G01N1/00;G01Q30/00;G01Q30/12;G01Q40/02 |
主分类号 |
G01N1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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