| 主权项 |
1.一种用于分析样本的X射线萤光分析仪,其包含:一X射线光束产生器,其产生一X射线光束来照射到该样本上的点,并由此产生复数个萤光X射线光子;复数个半导体侦测器,其以阵列排列在该点周围,而来捕捉在一共用于所有的侦测器的能量范围内的萤光X射线光子,并依此来产生适用于分析该样本的复数个电子脉冲;及一多重输入处理单元,其接收及分析该复数个脉冲,使得来自每个侦测器的脉冲皆可由该处理单元的一独立输入来接收,而其可利用回应于所有侦测器共用能量范围内的光子所接收来自所有该侦测器的脉冲来产生一输出。2.如申请专利范围第1项之分析仪,其中该X射线产生器包含一毛细管光学仪器。3.如申请专利范围第2项之分析仪,其中该毛细管光学仪器包含一聚合毛细管光学仪器。4.如申请专利范围第1项之分析仪,其中该等复数个侦测器包含复数个二极体。5.如申请专利范围第1项之分析仪,其中该等复数个侦测器系相对于一点而对称性地配置,该点即为该光束照射到该样本上的位置。6.如申请专利范围第5项之分析仪,其中等该复数个侦测器系配置成一环形。7.如申请专利范围第1项之分析仪,其中该处理单元分析该等复数个脉冲来测定该样本的厚度及组成。8.一种对一样本做X射线萤光分析的方法,其包含:以X射线光束照射在该样本上的一个点;在该点的周围配置复数个X射线侦测器,藉以侦测在该点由该光束与该样本相互影响所产生的复数个萤光X射线光子,其是在所有侦测器共同的一能量范围之内;接收在所有侦测器共同的一能量范围内,依回应于该光子所产生来自所有侦测器的复数个电子脉冲;及处理接收在所有侦测器共同的一能量范围内,依回应于该光子所产生来自所有侦测器的复数个电子脉冲,藉以分析该样本。9.如申请专利范围第8项之方法,其中照射该样本包含使用一毛细管光学仪器来照射该样本。10.如申请专利范围第8项之方法,其中提供该等复数个侦测器包含提供复数个半导体二极体。11.如申请专利范围第8项之方法,其中配置该等复数个侦测器包含放置通常相对于该点为对称的侦测器。12.如申请专利范围第11项之方法,其中放置该侦测器包含将该侦测器配置成通常以该点为中心的环状。13.如申请专利范围第8项之方法,其中接收复数个脉冲包含分别接收来自各个该等复数个侦测器之脉冲。图式简单说明:第一图A所示为根据本发明的一较佳具体实施例之一X射线微萤光分析仪的架构透视图;及第一图B为第一图A之分析仪的细部放大架构的侧视图。 |
