| 主权项 |
1.一种微波电浆激发方法,藉由至少一辅助微波源激发出引火电浆,并与反应气体导入主反应腔内,而由主微波源激发出所需之反应电浆。2.依申请专利范围第1项所述之微波电浆激发方法,其中该辅助微波源系有两组。3.依申请专利范围第2项所述之微波电浆激发方法,其中该两组辅助微波源系呈对称排列。4.依申请专利范围第2项所述之微波电浆激发方法,其中该两组辅助微波源系呈上下交错排列。5.依申请专利范围第1项所述之微波电浆激发方法,其中该引火电浆系先与反应气体混合后方导入主反应腔内。6.依申请专利范围第1或5项所述之微波电浆激发方法,其中该反应电浆系用以处理废气。7.依申请专利范围第1或5项所述之微波电浆激发方法,其中该反应电浆系用以处理半导体晶圆或玻璃基板。8.一种激发微波电浆之装置,主要包含:一主微波源,具有一主反应腔、一主微波产生装置及一主气体入口;及至少一辅助微波源,每一辅助微波源均具有一辅助反应腔、一辅助微波产生装置、一辅助气体入口及一引火电浆出口;其中每一辅助微波源之引火电浆出口系连通至主微波源之主反应腔。9.依申请专利范围第8项所述之激发微波电浆之装置,其中每一辅助微波源之引火电浆出口系与主微波源之主气体入口连通。10.依申请专利范围第8或9项所述之激发微波电浆之装置,其中该辅助微波源系为两组之设置。11.依申请专利范围第10项所述之激发微波电浆之装置,其中该两组辅助微波源系呈对称排列。12.依申请专利范围第10项所述之激发微波电浆之装置,其中该两组辅助微波源系呈上下交错排列。13.依申请专利范围第8或9项所述之激发微波电浆之装置,其中该辅助微波产生装置之输出功率为主微波产生装置之输出功率之百分之五十以下。14.依申请专利范围第8或9项所述之激发微波电浆之装置,其中该辅助微波产生装置之输出功率为主微波产生装置之输出功率之百分二十五以下。15.依申请专利范围第8或9项所述之激发徽波电浆之装置,其中该主微波产生装置系为电子回旋共振[ECR]电浆产生装置。图式简单说明:第一图:本发明之微波源之第一实施例之示意图;第二图:本发明之微波源之第二实施例之示意图;第三图:本发明之微波源之第三实施例之示意图;及第四图:本发明之微波源之第四实施例之示意图。 |
