| 主权项 |
1.一种平面式光源,系包括有:一第一基质,其上架构有第一电极,而第一电极上则架构有隔离层;一第二基质,系与第一基质相连接,且其上架构有第二电极;一第三电极,系架构于第二电极边缘处;一密封材质,系用以填补于第一及第二基质边缘空隙;一萤光层,系设置于第一基质表面或第二基质表面;一惰性气体,系注入到第一及第二基质间之空隙。2.如申请专利范围第1项所述之平面式光源;其中,于第一基质及第二基质之间,系架构有管体。3.如申请专利范围第1项所述之平面式光源;其中,第三电极包含银的成份。4.如申请专利范围第1项所述之平面式光源;其中,萤光层,设置于第一基质表面及第二基质表面。5.一种平面式光源的制造方法,其步骤包括有:于第一基质上形成第一电极;于第一电极上形成隔离层;于隔离榴上形成萤光层;于已形成第二电极的第二基质边缘处,形成第三电极;在第二基质,形成第三电极的另一侧装入管体;将第一与第二基质联结在一起;将惰性气体注入到第一基质与第二基质间的管体,并封闭此空间。6.如申请专利范围第5项所述之平面式光源制造方法;其中,包括将管体装到第二基质之后,形成第二萤光层的步骤。7.一种平面式光源的制造方法,其包括有:于第一基质上形成第一电极;于第一电极上形成隔离层;于第二基质形成第三电极的另一侧,形成一具有孔洞的第一萤光层,其中因有孔洞部份,故第二基质为看的见的;于具有孔洞的第一萤光层处涂布黏着剂;藉由黏着剂将管体安装;将第一与第二基质联结在一起;将惰性气体注入到第一基质与第二基质间的管体,并封闭此空间。8.如申请专利范围第7项所述之平面式光源制造方法;其中,系包括于隔离层上形成第二萤光层的步骤。图式简单说明:第一图系本发明平面式光源具体实施例之平面示意图。第二图系本发明平面式光源具体实施例之平面前示图。第三图A-第三图C系本发明平面式光源具体实施例之下方基质,制造过程平面图。第四图A-第四图D系本发明平面式光源具体实施例之上方基质,第一种制造过程平面图。第五图A-第五图D系本发明平面式光源具体实施例之上方基质,第二种制造过程平面图。 |
