| 主权项 |
1.一种制造低摩擦系数纤维的方法,其包括下列步 骤: 经由共挤型方式形成材料薄片,该经共挤型之薄片 具有至少一第一外层,一第二外层,及一中央层;其 中该中央层系由摩擦系数比制成该至少一外层之 材料更高的材料制得;及 取向及细割经共挤型之薄片以形成纤维,使该纤维 的上表面由与该第一外层之相同材料制得,该纤维 之下表面由与该第二外层相同之材料制得,而该纤 维之侧表面由与该中央层相同之材料制得。2.根 据申请专利范围第1项之方法,其中用来形成该第 一及第二外层至少一层的材料包括选自一群:矽酮 ,矽酮共聚物,矽酮弹性体,聚四氟乙烯,均聚物及其 共聚物,石墨,硼,聚丙烯及聚乙烯。3.根据申请专 利范围第2项之方法,其中用来形成该第一及第二 外层至少一层的材料包括聚四氟乙烯。4.根据申 请专利范围第1项之方法,其中用来形成该第一及 第二外层至少一层的材料包括摩擦系数低于0.3的 材料。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中用来 形成该第一外层的材料及用来形成该第二外层的 材料具有不同的摩擦系数。6.根据申请专利范围 第1项之方法,其中用来形成该第一外层的材料及 用来形成该第二外层的材料具有相同的摩擦系数 。7.根据申请专利范围第1项之方法,其中用来形成 该第一外层的材料及用来形成第二外层的材料为 相同材料。8.根据申请专利范围第1项之方法,其中 用来形成该中央层的材料包括选自一包括吸震材 料,绝热材料及热辐射材料,或其组合。9.根据申请 专利范围第1项之方法,其中用来形成该中央层的 材料为细胞状泡沫体。10.一种制造低摩擦系数纤 维的方法,其包括下列步骤: 经由层压方式形成材料薄片,该经层压之薄片具有 至少一第一外层,一第二外层,及一中央层;其中该 中央层系由摩擦系数比制成该至少一外层之材料 更高的材料制得;及 取向及细割经层压之薄片以形成纤维,使该纤维的 上表面由与该第一外层之相同材料制得,该纤维之 下表面由与该第二外层相同之材料制得,而该纤维 之侧表面由与该中央层相同之材料制得。11.根据 申请专利范围第10项之方法,其中用来形成该第一 及第二外层至少一层的材料包括选自一群:矽酮, 矽酮共聚物,矽酮弹性体,聚四氟乙烯,均聚物及其 共聚物,石墨,硼,聚丙烯及聚乙烯。12.根据申请专 利范围第11项之方法,其中用来形成该第一及第二 外层至少一层的材料包括聚四氟乙烯。13.根据申 请专利范围第10项之方法,其中用来形成该第一及 第二外层至少一层的材料包括摩擦系数低于0.3的 材料。14.根据申请专利范围第10项之方法,其中用 来形成该第一外层的材料及用来形成该第二外层 的材料具有不同的摩擦系数。15.根据申请专利范 围第10项之方法,其中用来形成该第一外层的材料 及用来形成该第二外层的材料具有相同的摩擦系 数。16.根据申请专利范围第10项之方法,其中用来 形成该第一外层的材料及用来形成该第二外层的 材料为相同材料。17.根据申请专利范围第10项之 方法,其中用来形成该中央层的材料包括选自一包 括吸震材料,绝热材料及热辐射材料,或其组合。18 .根据申请专利范围第10项之方法,其中用来形成该 中央层的材料为细胞状泡沫体。19.一种制造低摩 擦系数纤维的方法,其包括下列步骤: 经由涂覆方式形成材料薄片,该经涂覆之薄片具有 至少一第一外层,一第二外层,及一中央层;其中该 中央层系由摩擦系数比制成该至少一外层之材料 更高的材料制得;及 取向及细割经涂覆之薄片以形成纤维,使该纤维的 上表面由与该第一外层之相同材料制得,该纤维之 下表面由与该第二外层相同之材料制得,而该纤维 之侧表面由与该中央层相同之材料制得。20.根据 申请专利范围第19项之方法,其中用来涂覆该第一 及第二外层至少一层的材料包括选自一群:矽酮, 矽酮共聚物,矽酮弹性体,聚四氟乙烯,均聚物及其 共聚物,石墨,硼,聚丙烯及聚乙烯。21.根据申请专 利范围第20项之方法,其中用来涂覆该第一及第二 外层至少一层的材料包括聚四氟乙烯。 22根据申请专利范围第19项之方法,其中用来涂覆 该第一及第二外层至少一层的材料包括摩擦系数 低于0.3的材料。 23.根据申请专利范围第19项之方法,其中该第一外 层及该第二外层具有不同的摩擦系数。 24.根据申请专利范围第19项之方法,其中该第一外 层及该第二外层具有相同的摩擦系数。 25.根据申请专利范围第19项之方法,其中制得该第 一外层的材料及制得该第二外层的材料为相同材 料。 26.根据申请专利范围第19项之方法,其中用来制得 该中央层的材料包括选自一包括吸震材料,绝热材 料及热辐射材料,或其组合。 27.根据申请专利范围第19项之方法,其中用来形成 该中央层的材料为细胞状泡沫体。 28.一种低摩擦系数的纤维,其系由形成具有至少一 第一外层,一第二外层,及一中央层之材料薄片所 得低摩擦系数的纤维,其系:其中该中央层系由摩 擦系数比制成该至少一外层之材料更高的材料制 得;取向及细割该材料薄片以形成该纤维,使该纤 维的上表面由与该第一外层之相同材料制得,该纤 维之下表面由该第二外层相同之材料制得,而该纤 维之侧表面由与该中央层相同之材料制得。 29.根据申请专利范围第28项之纤维,其中该薄片系 经由共挤型方式形成。 30.根据申请专利范围第28项之纤维,其中该薄片系 经由层压方式形成。 31.根据申请专利范围第28项之纤维,其中该薄片系 经由涂覆方式形成。 32.根据申请专利范围第28项之纤维,其中用来制得 该中央层的材料包括选自一包括吸震材料,绝热材 料及热辐射材料,或其组合。 33.根据申请专利范围第28项之方法,其中用来制得 该中央层的材料为细胞状泡沫体。 34.一种制造低摩擦系数纤维的方法,其包括下列步 骤: 提供一基底纤维;及 以摩擦系数低于基底纤维之材料部分涂覆基底纤 维,使得所得经部分涂覆之纤维具有经涂覆之表面 部分及未经涂覆之表面部分。 35.根据申请专利范围第34项之方法,其中用来涂覆 该基底纤维之材料包括选自一群:矽酮,矽酮共聚 物,矽酮弹性体,聚四氟乙烯,均聚物及其共聚物,石 墨,硼,聚丙烯及聚乙烯。 36.根据申请专利范围第35项之方法,其中用来涂覆 该基底纤维的材料包括四氟乙烯。 37.根据申请专利范围第34项之方法,其中用来涂覆 该基底纤维的材料包括摩擦系数低于0.3的材料。 38.根据申请专利范围第34项之方法,其中该基底纤 维包括选自一包括吸震材料,绝热材料及热辐射材 料,或其组合。 39.一种低于摩擦系数的纤维,其系藉由提供基底纤 维;及以摩擦系数低于基底纤维之材料部分涂覆基 底纤维,使得所得经部分涂覆之纤维具有经涂覆之 表面部分及未经涂覆之表面部分的方式而得。 40.根据申请专利范围第39项之纤维,其中用来涂覆 该基底纤维的材料包括选自一群:矽酮,矽酮共聚 物,矽酮弹性体,聚四氟乙烯,均聚物及其共聚物,石 墨,硼,聚丙烯及聚乙烯。 41.根据申请专利范围第40项之纤维,其中用来涂覆 该基底纤维的材料包括聚四氟乙烯。 42.根据申请专利范围第39项之纤维,其中用来涂覆 该基底纤维的材料包括一具有摩擦系数低于0.3的 材料。 43.根据申请专利范围第39项之纤维,其中基底纤维 包括选自一包括吸震材料,绝热材料及热辐射材料 ,或其组合。图式简单说明: 第一图系为本发明具低摩擦系数表面之纤维的剖 面图;其中上表面的摩擦系数系与下表面的磨擦系 数相同,而且上表面及下表面二者皆具有较中央层 /侧表面摩擦系数低的摩擦系数。 第二图系为本发明具低摩擦系数表面之纤维的剖 面图;其中上表面的摩擦系数系与下表面的摩擦系 数不同,而且上表面及下表面其中之一或二者具有 较中央层/侧表面摩擦系数低的摩擦系数。 第三图系为本发明具低摩擦系数表面及扩大中央 层之纤维的剖面图;其中上表面的摩擦系数系与下 表面的摩擦系数相同,而且上表面及下表面二者皆 具有较中央层/侧表面摩擦系数低的摩擦系数。 第四图系为部分涂覆本发明低摩擦系数材料之基 底纤维的剖面图。 |
