| 发明名称 | 抗反射的萤幕滤镜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种抗反射的萤幕滤镜及其制造方法。第一层镀膜最接近基板,其由溅镀方式镀成在波长520奈米时的折射率约在1.85至2.1的范围内的导电氧化物;第二层镀膜是置于第一层镀膜之上为波长520奈米时折射率为1.45至1.5的氧化物;第三层镀膜置于第二层镀膜之上,且由波长520奈米时折射率为1.9至2.2的氧化物所组成;第四层镀膜沉积在最上面,它是由波长520奈米时折射率为1.45至1.55的湿式氧化硅镀膜制程所制成。具有高导电性、低反射性和低成本的功效。 | ||
| 申请公布号 | CN1320825A | 申请公布日期 | 2001.11.07 |
| 申请号 | CN00106242.5 | 申请日期 | 2000.04.26 |
| 申请人 | 冠华科技股份有限公司 | 发明人 | 朱兆杰;李昭松 |
| 分类号 | G02B1/10;G02B5/22;C03C17/34 | 主分类号 | G02B1/10 |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘朝华 |
| 主权项 | 1、一种抗反射的萤幕滤镜，包含有四层镀膜结构，其特征在于接近基板的第一层镀膜由一折射率在波长520奈米时为1.85至2.1的导电氧化材料所组成，其厚度在25至50奈米之间；第二层镀膜位于第一层的上方，由折射率在波长520奈米时为1.45至1.5的氧化物所组成，其厚度在10至30奈米之间；第三层镀膜位于第二层镀膜的上方，由折射率在波长520奈米时为1.9至2.2抗化学药品的氧化物所组成，此层的厚度在40至60奈米之间；第四层镀膜位于第三层镀膜的上方，由折射率在波长520奈米时为1.45至1.5的氧化物所组成，此层的厚度在85至100奈米之间； | ||
| 地址 | 台湾省新竹市 | ||