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发明名称 GAS DISTRIBUTION SYSTEM FOR A PROCESS REACTOR AND METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR SUBSTRATES
摘要
申请公布号 EP1007761(B1) 申请公布日期 2001.11.07
申请号 EP19980949888 申请日期 1998.08.13
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SCHWAIGER, JOSEF;NIEDERHOFER, GERHARD;OTT, GERHARD;MELZL, MICHAEL
分类号 C23C16/448;C23C16/40;C23C16/455;H01L21/31;H01L21/316;(IPC1-7):C23C16/40;C30B25/14;C23C16/44 主分类号 C23C16/448
代理机构 代理人
主权项
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