| 发明名称 | 自发光设备及其制造方法 | ||
| 摘要 | 提供一种在同一多室内连续形成EL层、阴极、阻挡层和覆盖层的方法。通过使用同一膜沉积方法以形成EL层和覆盖层,如图1A所示,EL层、阴极、阻挡层和覆盖层可以在同一多室内顺次形成。因此,如图1B所示,可以形成EL元件的密闭结构。 | ||
| 申请公布号 | CN1320971A | 申请公布日期 | 2001.11.07 |
| 申请号 | CN01117396.3 | 申请日期 | 2001.03.27 |
| 申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 山崎舜平;柴田典子 |
| 分类号 | H01L33/00;H05B33/10;H05B33/00 | 主分类号 | H01L33/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 卢新华;钟守期 |
| 主权项 | 1．一种带有EL元件的自发光设备，包括：由无机材料制成的膜，覆盖所述EL元件，以及由有机材料制成的膜，覆盖所述由无机材料制成的膜。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县厚木市 | ||