| 发明名称 | 在超紫外光源中气体喷射控制的护罩喷嘴 | ||
| 摘要 | 用于超紫外线源的气体喷嘴(20,60)包括一壳体(22,62),该壳体有一前表面(24,64)和后表面(26,66)。壳体(22,62)可连接于主气体源(44)和副气体源(46),并适于从壳体前表面(24,26)喷出主气体(36,76)和副气体(42,82)。壳体(22,62)具有设在壳体内的排气的主通道(30,70)和接近于主通道(30,70)的排气的副通道。主通道(30,70)可为圆形,副通道(34,74)可为包围主通道(30,70)的环形。从副通道(34,74)排出的副气体流(42,82)限制从主通道(30,70)排出的主气体流(36,76)的侧向膨胀,使气体喷射性质最佳化并减少喷嘴(20,60)的受热和侵蚀。 | ||
| 申请公布号 | CN1320840A | 申请公布日期 | 2001.11.07 |
| 申请号 | CN01104501.9 | 申请日期 | 2001.02.14 |
| 申请人 | TRW公司 | 发明人 | 罗伊·D·麦格雷戈;小查尔斯·W·克伦德宁 |
| 分类号 | G03F7/16;G03F7/20;B05B1/00 | 主分类号 | G03F7/16 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张祖昌 |
| 主权项 | 1.用于超紫外线(EUV)源的气体喷嘴，包括：一个壳体，它适于连接于一个主气体源并适于排出第一气体/微滴流，所述壳体包括一条设置在所述壳体内、适于排出所述第一气体/微滴流的主通道，所述壳体还包括一条副通道，该副通道适于连接于一个副气体源并适于排出第二气体流，以便使主通道排出的第一气体流成形。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚 | ||