发明名称 |
Method and apparatus for reducing PFC emission during semiconductor manufacture |
摘要 |
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申请公布号 |
GB0122615(D0) |
申请公布日期 |
2001.11.07 |
申请号 |
GB20010022615 |
申请日期 |
2001.09.19 |
申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. |
发明人 |
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分类号 |
B01D53/68;B01D53/34;B01D53/70;B01D53/77;C23C16/44;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
B01D53/68 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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