| 发明名称 |
PROCEDE D'ENLEVEMENT LOCAL D'UN REVETEMENT APPLIQUE SUR UN SUBSTRAT TRANSLUCIDE OU TRANSPARENT. |
| 摘要 |
Procédé d'enlèvement local d'un revêtement (2) appliqué sur un substrat (1) translucide ou transparent, caractérisé en ce qu'à l'aide d'un laser (4) pulsé à corps solide ou d'au moins une diode laser pulsée, un faisceau (3) laser pulsé est dirigé sur le revêtement (2), aux endroits où celui-ci doit être enlevé. |
| 申请公布号 |
BE1013237(A3) |
申请公布日期 |
2001.11.06 |
| 申请号 |
BE20000000037 |
申请日期 |
2000.01.20 |
| 申请人 |
WALLONIA SPACE LOGISTICS, EN ABREGE WSL SOCIETE ANONYME |
发明人 |
KUPISIEWICZ AXEL |
| 分类号 |
B08B7/00;B23K26/362;B23K26/40 |
主分类号 |
B08B7/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
