发明名称 Heat-treatment apparatus for silica glass forming gel
摘要 <p>본 발명은 퍼니스 몸체, 이 퍼니스 몸체를 관통하고 있는 프로세스 튜브, 이 프로세스 튜브의 인접 영역에 설치되어 있으며, 프로세스 튜브안에 위치해있는 시료를 히팅하기 위한 복수개의 가열수단, 상기 프로세스 튜브의 양 말단부의 입구에 삽입되어 프로세스 튜브를 단열시키기 위한 내화물 플러그 및 내화물 플러그가 삽입되어 있고 프로세스 튜브의 양 말단부에 결합되어 있고 프로세스 튜브안에 흐르는 프로세스 가스 누출을 막기 위한 엔드 캡을 구비하는 실리카 글래스 형성용 겔의 열처리장치에 있어서, 상기 내화물 플러그가 석영으로 이루어진 것을 특징으로 하고 있다. 본 발명의 내화물 플러그를 사용하면, 실리카 글래스 형성용 겔의 유기물 제거 및 수산기 제거를 위한 열처리시 내화물 플러그로부터 비롯된 불순물이 겔에 유입되는 것을 효율적으로 막을 수 있다. 그 결과, 겔의 유리화가 원활하게 이루어져 순도 특성이 개선된 실리카 글래스를 얻을 수 있게 된다.</p>
申请公布号 KR100313276(B1) 申请公布日期 2001.11.05
申请号 KR19990021370 申请日期 1999.06.09
申请人 null, null 发明人 정원일
分类号 C03B20/00 主分类号 C03B20/00
代理机构 代理人
主权项
地址