| 摘要 |
<p>금속산화물 슬러리 제조시 분산화 단계 이전에 금속산화물과 수용액을 혼합하는데 있어서, 혼합액에 대하여 0.05∼0.5중량%의 글리세린을 물에 첨가하고 -20∼20℃ 범위로 온도를 낮춘 후, 이 혼합온도를 유지하면서 금속산화물을 70㎏/h이하의 속도로 첨가,혼합함으로써 혼합액을 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 CMP용 금속산화물 슬러리의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 의해 제조된 금속산화물 슬러리는 분산 전후의 금속산화물 입자의 표면적 변화가 작으므로, 분산이 보다 용이하고, 분산 후 제조된 CMP용 슬러리의 입자가 다시 뭉치는 현상이 감소하며, 슬러리의 불안정으로 침강하는 현상이 적어지므로, 슬러리내에서 금속산화물 입자가 미세 분산되어 CMP공정시 연마되는 웨이퍼 표면의 μ-스크래치가 감소하고 연마 균일성이 향상되어 반도체 소자 CMP용으로 유용한 금속 슬러리를 제조할 수 있다.</p> |
