| 主权项 |
1.一种纯化含不纯物之低温流体的方法,其中该不纯物系选自N2O、CnHm及Nox,其中该方法:(a)至少某些含在欲纯化之低温流体中之不纯物的去除系藉由将该欲纯化之底温流体与至少一吸附剂之颗粒接触,该颗粒具有平均大小小于或等于1.5mm;且(b)所回收之经纯化之低温流体包含小于100ppb之该不纯物。2.根据申请专利范围第1项的方法,其中该颗粒具有平均大小小于或等于1.3mm。3.根据申请专利范围第1项的方法,其中该颗粒具有平均大小0.8到1.1mm之间。4.根据申请专利范围第1或2项的方法,其中该低温流体为选自氧、氩、氮、氢及氦。5.根据申请专利范围第1或2项的方法,其中该低温流体为液体及/或气体状态。6.根据申请专利范围第1或2项的方法,其中至少某些含在欲纯化之低温流体中之不纯物的去除系藉由吸附或化学吸附在吸附剂颗粒上。7.根据申请专利范围第1或2项的方法,其中去除不纯物的进行是在温度低于-120℃;及/或压力为105Pa至3106Pa。8. 根据申请专利范围第1或2项的方法,其中低温流体与吸附剂颗粒之接触时间为小于或等于300秒。9.根据申请专利范围第1或2项的方法,其中该吸附剂颗粒具有孔径为0.5至2.5nm及/或孔隙度为0.2至0.8ml/g,及/或比表面积为100至1500m2/g。10.根据申请专利范围第1或2项的方法,其在于该吸附剂粒为珠、挤压、碎或椭圆形状。11.根据申请专利范围第1或2项的方法,其中该吸附剂颗粒系由选自矽胶、沸石、金属氧化物及碳材料的材料所制成。12.根据申请专利范围第1或2项的方法,其中所回收之经纯化之低温流体包含最多10ppb之不纯物。图式简单说明:第一图表示根据第1号测试,在2.5mm吸附剂颗粒上液态氩纯化测试期间,所获得N2O含量突破的曲线。第二图表示相似于第一图之N2O含量突破的曲线,但为根据第2号测试于2mm颗粒上获得。第三图表示相似于第一图或第二图之N2O含量突破的曲线,但为根据第3号测试于1.1mm颗粒上获得。 |
