| 主权项 |
1.一种电感耦合式电浆反应器,包含: 一反应器本体,其包含一底盘,一围绕该底盘的直 立侧壁,及一气密地结合于该直立侧壁的自由端的 法兰盘,其中该法兰盘具有一孔洞; 一气密地盖住该法兰盘的孔洞的介电窗;及 位于该介电窗上的n个间隔开的螺旋线圈,其中n为 大于等于2的整数,该n个螺旋线圈的轴心系直立、 互相平行的,其中该n个螺旋线圈系被串联连接,该 被串联连接的n个螺旋线圈的一端被接地,而另一 端适于连接至一RF功率来源;或该n个螺旋线圈系被 并联连接,该被并联连接的n个螺旋线圈的每一个 螺旋线圈的一端被接地,而另一端被连接至m个节 点,m为大于0小于n的整数,该m个节点适于连接至一 或多个RF功率来源。2.如申请专利范围第1项的反 应器,其中该n个螺旋线圈系串联连接,且相邻的两 个的螺旋方向相同。3.如申请专利范围第1项的反 应器,其中该n个螺旋线圈系串联连接,且相邻的两 个的螺旋方向相反。4.如申请专利范围第2或3项的 反应器,其中n=4。5.如申请专利范围第1项的反应器 ,其中该n个螺旋线圈系并联连接,且相邻的两个的 螺旋方向相同。6.如申请专利范围第1项的反应器, 其中该n个螺旋线圈系并联连接,且相邻的两个的 螺旋方向相反。7.如申请专利范围第1项的反应器, 其中该n个螺旋线包含多对螺旋线圈,每对螺线圈 由两个螺旋线圈组成,其中该两个螺旋线圈的一端 皆被接地,而另一端则共同连接至该m个节点中的 一个。8.如申请专利范围第7项的反应器,其中该多 对螺旋线圈系连接至一个共同节点(m=1)。9.如申请 专利范围第7项的反应器,其中该多对螺旋线圈系 连接至多个不同节点。10.如申请专利范围第8或9 项的反应器,其中n=4。11.如申请专利范围第8项的 反应器,其中n=5,其中一个单独的螺旋线圈的一端 被接地,而另一端被连接至该共同节点。12.如申请 专利范围第9项的反应器,其中n=5,其中一个单独的 螺旋线圈的一端被接地,而另一端被连接至该共多 个节点中的一个或至一个附加的节点。13.如申请 专利范围第8或9项的反应器,其中n=16。14.如申请专 利范围第1项的反应器,其中该n个螺旋线圈皆具有 实质上相同的大小,其中每一个螺旋线圈是由一中 空铜管绕结而成,且每一个螺旋线圈具有大于一圈 的圈数,及大于2英寸的直径。15.如申请专利范围 第1项的反应器,其中该法兰盘具有设于其周缘的 多个进气孔,以及该介电窗具有一中央进气孔。16. 如申请专利范围第1项的反应器,其中该介电窗系 一平板型介电窗。17.如申请专利范围第1项的反应 器,其中该介电窗具有一平面基底及围绕该平面基 底一体形成之直立壁,其中该介电窗的直立壁气密 地结合于该法兰盘,并且该介电窗的平面基底由该 法兰盘的孔洞突出于该反应器本体外或由该法兰 盘的孔洞伸入于该反应器本体内,其中该等n个螺 旋线圈被置于该介电窗的平面基底上。18.如申请 专利范围第17项的反应器,该介电窗为圆柱形。19. 如申请专利范围第17项的反应器,其中该介电窗的 直立壁从该平面基底量起的高度低于10公分。20. 如申请专利范围第19项的反应器,其中该介电窗的 直立壁从该平面基底量起的高度低于5公分。21.一 种电感耦合式电浆反应器,包含: 一反应器本体其包含一底盘,一围绕该底盘的直立 侧壁,及一气密地结合于该直立侧壁的自由端的法 兰盘,其中该法兰盘具有n个间隔开的孔洞,其中n为 大于等于2的整数; n个介电窗分别气密地盖住该n个孔洞; n个螺旋线圈分别置于该n个介电窗上,该n个螺旋线 圈的轴心系直立、互相平行的,其中该n个螺旋线 圈系被串联连接,该被串联连接的n个螺旋线圈的 一端被接地,而另一端适于连接至一RF功率来源;或 该n个螺旋线圈系被并联连接,该被并联连接的n个 螺旋线圈的每一个螺旋线圈的一端被接地,而另一 端被连接至m个节点,m为大于0小于n的整数,该m个节 点适于连接至一或多个RF功率来源。22.如申请专 利范围第21项的反应器,其中该n个螺旋线圈系串联 连接,且相邻的两个的螺旋方向相同。23.如申请专 利范围第21项的反应器,其中该n个螺旋线圈系串联 连接,且相邻的两个的螺旋方向相反。24.如申请专 利范围第22或23项的反应器,其中n=4。25.如申请专 利范围第21项的反应器,其中该n个螺旋线圈系并联 连接,且相邻的两个的螺旋方向相同。26.如申请专 利范围第21项的反应器,其中该n个螺旋线圈系串联 连接,且相邻的两个的螺旋方向相反。27.如申请专 利范围第21项的反应器,其中该n个螺旋线包含多对 螺旋线圈,每对螺线圈由两个螺旋线圈组成,其中 该两个螺旋线圈的一端皆被接地,而另一端则共同 连接至该m个节点中的一个。28.如申请专利范围第 27项的反应器,其中该多对螺旋线圈系连接至一个 共同节点(m=1)。29.如申请专利范围第27项的反应器 ,其中该多对螺旋线圈系连接至多个不同节点。30. 如申请专利范围第28或29项的反应器,其中n=4。31. 如申请专利范围第28项的反应器,其中n=5,其中一个 单独的螺旋线圈的一端被接地,而另一端被连接至 该共同节点。32.如申请专利范围第29项的反应器, 其中n=5,其中一个单独的螺旋线圈的一端被接地, 而另一端被连接至该多个节点中的一个或至一个 附加的节点。33.如申请专利范围第28或29项的反应 器,其中n=16。34.如申请专利范围第21项的反应器, 其中该n个螺旋线圈皆具有实质上相同的大小,其 中每一个螺旋线圈是由一中空铜管绕结而成,且每 一个螺旋线圈具有大于一圈的圈数,及大于2英寸 的直径。35.如申请专利范围第21项的反应器,其中 该法兰盘具有设于其周缘的多个进气孔,以及设于 该等n个孔洞之间的多个进气孔。36.如申请专利范 围第21项的反应器,其中该n个介电窗系平板型介电 窗。37.如申请专利范围第21项的反应器,其中该n个 介电窗的每一个具有一平面基底及围绕该平面基 底一体形成之直立壁,其中该介电窗的直立壁气密 地结合于该法兰盘,并且该介电窗的平面基底由该 法兰盘的孔洞突出于该反应器本体外或由该法兰 盘的孔洞伸入于该反应器本体内,其中该等n个螺 旋线圈分别被置于该n个介电窗的平面基底上。38. 如申请专利范围第37项的反应器,该介电窗为圆柱 形。39.如申请专利范围第37项的反应器,其中该介 电窗的直立壁从该平面基底量起的高度低于10公 分。40.如申请专利范围第39项的反应器,其中该介 电窗的直立壁从该平面基底量起的高度低于5公分 。41.一种对位于一电感耦合式电浆反应器内及0. 001至10.0毫托真空压下的操作气体所产生的电感耦 合式电浆来增进其离子物质通量(flux)的方法,该电 感耦合式电浆反应器的底盘至其顶盘呈一固定高 度,该方法包含使用n个介电窗作为该顶盘的一部 份,该n个介电窗的每一个具有一平面基底及围绕 该平面基底一体形成之直立壁,并且该介电窗被气 密地结合于该顶盘,且结合的方式使该介电窗的平 面基底伸入于该反应器本体内;及使用分别置于该 n个介电窗的平面基底上的n个线圈来产生该电感 耦合式电浆,其中该n个螺旋线圈的轴心系直立、 互相平行的,其中该n个螺旋线圈系被串联连接,该 被串联连接的n个螺旋线圈的一端被接地,而另一 端被连接至一RF功率来源;或该n个螺旋线圈系被并 联连接,该被并联连接的n个螺旋线圈的每一个螺 旋线圈的一端被接地,而另一端被连接至m个节点,m 为大于0小于n的整数,该m个节点被连接至一或多个 RF功率来源。42.如申请专利范围第41项的方法,其 中该电感耦合式电浆系在一介于0.01至10.0毫托真 空压下产生。43.如申请专利范围第41项的方法,其 进一步包含将相同操作气体同时由设于该顶盘的 周缘的多个进气孔及介于该n个介电窗间的多个进 气孔导入该电感耦合式电浆反应器内。44.如申请 专利范围第41项的方法,其进一步包含将不同的操 作气体分别由设于该顶盘的周缘的多个进气孔及 介于该n个介电窗间的多个进气孔导入该电感耦合 式电浆反应器内。45.如申请专利范围第41项的方 法,其中该n个螺旋线圈系串联连接,且相邻的两个 的螺旋方向相同。46.如申请专利范围第41项的方 法,其中该n个螺旋线圈系串联连接,且相邻的两个 的螺旋方向相反。47.如申请专利范围第45或46项的 方法,其中n=4。48.如申请专利范围第41项的方法,其 中该n个螺旋线圈系并联连接,且相邻的两个的螺 旋方向相同。49.如申请专利范围第41项的方法,其 中该n个螺旋线圈系串联连接,且相邻的两个的螺 旋方向相反。50.如申请专利范围第41项的方法,其 中该n个螺旋线包含多对螺旋线圈,每对螺线圈由 两个螺旋线圈组成,其中该两个螺旋线圈的一端皆 被接地,而另一端则共同连接至该m个节点中的一 个。51.如申请专利范围第50项的方法,其中该多对 螺旋线圈系连接至一个共同节点(m=1)。52.如申请 专利范围第50项的方法,其中该多对螺旋线圈系连 接至多个不同节点。53.如申请专利范围第51或52项 的方法,其中n=4。54.如申请专利范围第51项的方法, 其中n=5,其中一个单独的螺旋线圈的一端被接地, 而另一端被连接至该共同节点。55.如申请专利范 围第52项的方法,其中n=5,其中一个单独的螺旋线圈 的一端被接地,而另一端被连接至该多个节点中的 一个或至一个附加的节点。56.如申请专利范围第 51或52项的方法,其中n=16。57.如申请专利范围第41 项的方法,其中该n个螺旋线圈皆具有实质上相同 的大小,其中每一个螺旋线圈是由一中空铜管绕结 而成,且每一个螺旋线圈具有大于一圈的圈数,及 大于2英寸的直径。58.如申请专利范围第41项的方 法,该介电窗为圆柱形。59.如申请专利范围第41项 的方法,其中该介电窗的直立壁从该平面基底量起 的高度低于10公分。60.如申请专利范围第59项的方 法,其中该介电窗的直立壁从该平面基底量起的高 度低于5公分。61.一种对位于一电感耦合式电浆反 应器内及一高于10.0毫托真空压下的操作气体所产 生的电感耦合式电浆来增进其电浆产生均匀性的 方法,该电感耦合式电浆反应器的底盘至其顶盘呈 一固定高度,该方法包含使用n个介电窗作为该顶 盘的一部份,该n个介电窗的每一个具有一平面基 底及围绕该平面基底一体形成之直立壁,并且该介 电窗被气密地结合于该顶盘,且结合的方式使该介 电窗的平面基底突出于该反应器本体外;及使用分 别置于该n个介电窗的平面基底上的n个线圈来产 生该电感耦合式电浆,其中该n个螺旋线圈的轴心 系直立、互相平行的,其中该n个螺旋线圈系被串 联连接,该被串联连接的n个螺旋线圈的一端被接 地,而另一端被连接至一RF功率来源;或该n个螺旋 线圈系被并联连接,该被并联连接的n个螺旋线圈 的每一个螺旋线圈的一端被接地,而另一端被连接 至m个节点,m为大于0小于n的整数,该m个节点被连接 至一或多个RF功率来源。62.如申请专利范围第61项 的方法,其中该电感耦合式电浆系在一介于10至100 毫托真空压下产生。63.如申请专利范围第61项的 方法,其进一步包含将相同操作气体同时由设于该 顶盘的周缘的多个进气孔及介于该n个介电窗间的 多个进气孔导入该电感耦合式电浆反应器内。64. 如申请专利范围第61项的方法,其进一步包含将不 同的操作气体分别由设于该顶盘的周缘的多个进 气孔及介于该n个介电窗间的多个进气孔导入该电 感耦合式电浆反应器内。65.如申请专利范围第61 项的方法,其中该n个螺旋线圈系串联连接,且相邻 的两个的螺旋方向相同。66.如申请专利范围第61 项的方法,其中该n个螺旋线圈系串联连接,且相邻 的两个的螺旋方向相反。67.如申请专利范围第65 或66项的方法,其中n=4。68.如申请专利范围第61项 的方法,其中该n个螺旋线圈系并联连接,且相邻的 两个的螺旋方向相同。69.如申请专利范围第61项 的方法,其中该n个螺旋线圈系串联连接,且相邻的 两个的螺旋方向相反。70.如申请专利范围第61项 的方法,其中该n个螺旋线包含多对螺旋线圈,每对 螺线圈由两个螺旋线圈组成,其中该两个螺旋线圈 的一端皆被接地,而另一端则共同连接至该m个节 点中的一个。71.如申请专利范围第70项的方法,其 中该多对螺旋线圈系连接至一个共同节点(m=1)。72 .如申请专利范围第70项的方法,其中该多对螺旋线 圈系连接至多个不同节点。73.如申请专利范围第 71或72项的方法,其中n=4。74.如申请专利范围第71项 的方法,其中n=5,其中一个单独的螺旋线圈的一端 被接地,而另一端被连接至该共同节点。75.如申请 专利范围第72项的方法,其中n=5,其中一个单独的螺 旋线圈的一端被接地,而另一端被连接至该多个节 点中的一个或至一个附加的节点。76.如申请专利 范围第71或72项的方法,其中n=16。77.如申请专利范 围第61项的方法,其中该n个螺旋线圈皆具有实质上 相同的大小,其中每一个螺旋线圈是由一中空铜管 绕结而成,且每一螺旋线圈具有大于一圈的圈数, 及大于2英寸的直径。78.如申请专利范围第61项的 方法,该介电窗为圆柱形。79.如申请专利范围第61 项的方法,其中该介电窗的直立壁从该平面基底量 起的高度低于10公分。80.如申请专利范围第79项的 方法,其中该介电窗的直立壁从该平面基底量起的 高度低于5公分。81.如申请专利范围第14项的反应 器,其中该n个螺旋线圈皆具有实质上相同的大小, 其中每一个螺旋线圈是由一管径为3/16寸的中空铜 管绕结而成,且每一个螺旋线圈具有2至3圈的圈数, 及2至4英寸的直径。82.如申请专利范围第34项的反 应器,其中该n个螺旋线圈皆具有实质上相同的大 小,其中每一个螺旋线圈是由一管径为3/16寸的中 空铜管绕结而成,且每一个螺旋线圈具有2至3圈的 圈数,及2至4英寸的直径。83.如申请专利范围第57 项的方法,其中该n个螺旋线圈皆具有实质上相同 的大小,其中每一个螺旋线圈是由一管径为3/16寸 的中空铜管绕结而成,且每一个螺旋线圈具有2至3 圈的圈数,及2至4英寸的直径。84.如申请专利范围 第77项的方法,其中该n个螺旋线圈皆具有实质上相 同的大小,其中每一个螺旋线圈是由一管径为3/16 寸的中空铜管绕结而成,且每一个螺旋线圈具有2 至3圈的圈数,及2至4英寸的直径。图式简单说明: 第一图A本发明之一串联线圈组态示意图;其中外 加电流以相同的绕行方向流经该线圈组态的各单 位线圈。 第一图B本发明之另一串联线圈组态示意图的;其 中外加电流以相反的绕行方向流经该线圈组态的 各两相邻之单位线圈。 第二图显示了两相邻线圈因相反的电流绕行方向 所产生之感应磁力线示意图。 第三图A本发明之一并联线圈组态示意图;其中外 加电流以相同的绕行方向流经该线圈组态的各单 位线圈。 第三图B本发明之另一并联线圈组态示意图;其中 外加电流以相反的绕行方向流经该线圈组态的各 两相邻之单位线圈。 第三图C本发明之另一并联线圈组态示意图;其中 每二个并联线圈为一对,两对并联线圈互相交错置 放,且各外接一独立RF电源供应器。 第四图本发明之一电浆反应器的侧面剖视示意图; 其中使用有本发明的一感应线圈组态。 第五图A本发明之另一电浆反应器的部份侧面剖视 图;其中线圈放置在碟形介电窗上方。 第五图B本发明之另一电浆反应器的部份侧面剖视 图;其中线圈放置在帽形介电窗上方。 第六图本发明之另一电浆反应器的侧面剖视图;其 中各单位线圈分别放置在独立的碟形介电窗上方 。 第七图本发明之另一电浆反应器的上视图,显示了 含多个独立介电窗之法兰盘结构组态示意图;其中 每个介电窗之间皆有连续式进气喷嘴孔。 第八图本发明之另一电浆反应器的上视图,显示了 含多个独立介电窗之法兰盘结构组态示意图;其中 每个介电窗之间皆有连续式进气喷嘴孔。 |
