| 主权项 |
1.一种制造光学元件的方法,其包括: a)涂布第一个光敏感性的组合物于基材上,其第一 个光敏感性的组合物含有至少一种第一自由基可 聚合的单体、寡聚体或聚合物成份之混合物,其中 聚合物成份含有至少一种乙烯系不饱和基和至少 一种第一光起始剂; b)以映像的方法曝照第一光敏感性组合物于足量 光化学的辐射中,以影响聚合反应并形成映像区域 和非映像区域;然后除去非映像区域,而不除去映 像区域,使映像区域形成一个能传输光线的图谱核 心; c)涂布第二个光敏感性组合物在图谱的核心之上, 此第二光敏感性组合物含有至少一个第二自由基 可聚合的单体、寡聚体或聚合物成份的混合物,此 聚合物成份至少含有一个乙烯系不饱和基和至少 一个第二光起始剂; d)曝照第一和第二光敏感性组合物于足量的光化 学辐射,以聚合第二光敏感性组合物,使得聚合的 第二光敏感性组合物形成一个包围这核心的包覆, 且其中聚合的核心具有玻璃移转温度80℃或更低, 且聚合的包覆具有玻璃移转温度60℃或更低,而其 中包覆的折射率低于核心的折射率。2.根据申请 专利范围第1项之方法,其中更包括涂布一层第三 光敏感性组合物于基材上,在基材和第一光敏感性 层间先涂布在第一光敏感层上,其中第三光敏感性 组合物含有第三自由基可聚合的单体、寡聚体或 聚合物成份之混合物,此聚合物成份含有至少一种 乙烯系不饱和基和第三光起始剂;然后将该第三光 敏感性组合物曝照于足量的光化学辐射中,而提供 一种均匀的聚合层于基材上,在涂布聚合的第一光 敏感性组合物层于基材上之前,其中聚合的第三光 敏感性组合物具有玻璃移转温度为60℃或更低。3. 根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(d)包括 以映像方法曝照第二光敏感性组合物于足量的光 化学辐射中,以进行第二光敏感性组合物的聚合反 应,并形成第二光敏感性组合物的映像和非映像区 域,使得聚合的第二光敏感性组合物形成映像方向 包围的包覆,并与核心对齐,然后去除第二光敏感 性组合物的非映像区域,而不去除第二光敏感性组 合物的映像区域。4.根据申请专利范围第1项之方 法,其中每个自由基可聚合的单体、寡聚体或聚合 物为丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯,含有至少两个乙烯 系不饱和基。5.根据申请专利范围第1项之方法,其 中每个光敏感性组合物更含有一种或多种化合物, 其为抗氧化剂、光安定剂、体积膨胀剂、填充剂 、自由基捕捉剂、对比增强剂、硝酸灵和染料所 组成。6.一种光学元件,其包括基材:在基材表面上 之图谱(图案覆盖)、光线传输的核心组合物、以 及在核心心图谱上之反射光线的包覆组合物,其中 核心组合物具有玻璃移转温度为80℃或更低,而包 覆组合物具有玻璃移转温度为60℃或更低,且其中 包覆之折射率较核心之折射率小。7.根据申请专 利范围第6项之光学元件,其中更含有另一层反射 光线的包覆组合物在基材上,于基材和核心之间, 其中该包覆组合物具有玻璃移转温度为60℃或更 低。8.根据申请专利范围第6项之光学元件,其中该 基材为选自包括矽、氧化矽、砷化镓、氮化矽、 玻璃、石英、塑胶、陶瓷、和结晶状物质。9.根 据申请专利范围第6项之光学元件,其中 a)图谱、光线传输核心之形成是经由映像方法曝 照和冲洗将第一光敏感性组合物用于基材的表面, 其中第一光敏感性组合物含有至少一种第一自由 基可聚合的单体、寡聚体或聚合物成份,其中聚合 物成份含有至少一种乙烯系不饱和基和至少一种 第一光起始剂;和 b)包覆的形成是经由将第二光敏感性组合物曝照, 用于图谱的核心上,其中第二光敏感性组合物含有 至少一种第二自由基可聚合的单体、寡聚体或聚 合物成份,其中聚合物成份含有至少一种乙烯系不 饱和基和至少一种第二光起始剂。10.根据申请专 利范围第9项之光学元件,其中步骤(b)的进行是以 映像的方法将第二光敏感性组合物曝照和冲洗在 图谱过的核心上,使得图谱过的第二光敏感性组合 物形成映像方向包围的包覆,并与核心图谱对齐。 11.根据申请专利范围第9项之光学元件,其是由另 外的步骤所形成,包括涂布一层第三光敏感性组合 物于基材上,在基材和第一光敏感性层间先涂布在 第一光敏感层上,其中第三光敏感性组合物含有至 少一种第三自由基可聚合的单体、寡聚体或聚合 物之混合物,此聚合物成份含有至少一种乙烯系不 饱和基和至少一种第三光起始剂;然后将该第三光 敏感性组合物曝照于足量的光化学辐射中,而提供 一种均匀的聚合层于基材上,在涂布聚合的第一光 敏感性组合物层于基材上之前,其中聚合的第三光 敏感性组合物具有玻璃移转温度为60℃或更低。 |
