处理反应室盖

摘要

本创作系关于一种处理反应室盖的新式样设计。本创作之目的在针对处理反应室盖提供一种具有新颖性与进步性之外观设计。本创作之处理反应室盖系用于半导体之处理反应室，其外型有如一椭圆平盘上二只水生昆虫对立着。底面则有相对应之孔洞，整体更呈协调、顺畅之流线造形。如上所述之处理反应室盖造形流畅，调和匀称，诚为一种创新之设计。

主权项

一种如图所示处理反应室盖之形状者。图式简单 说明: 第一图系本创作之立体图。 第二图系本创作之俯视图。 第三图系本创作之后视图。 第四图系本创作之前视图。 第五图系本创作之右侧视图。 第六图系本创作之左侧视图。 第七图系本创作之仰视图。