| 摘要 |
<p>본 발명은 반도체 제조공정에 있어서 메탈식각 또는 비아식각후 발생하는 폴리머의 세정 방법에 관한 것으로 더욱 상세하게는 4-하이드록시피페리딘을 사용한 세정제를 이용한 메탈식각 또는 비아식각후 반도체 소자의 세정 방법에 관한 것이다. 본 발명에 있어서 반응성에 있어서는 하이드록실아민보다는 작고 일반적인 아미노알콜류 보다는 큰 동시에 선택성에 있어서는 반대로 하이드록실아민보다는 크고 아미노알콜류보다는 작은 4-하이드록시 피페리딘을 사용함으로서 산화상태에 있는 금속만을 선택적으로 킬레이션 반응을 일으켜 용매에 잘녹는 유기금속 종을 형성하여 제거하게된다.</p> |
