发明名称 |
用于光学投影系统中的薄膜致动反射镜阵列及其制造方法 |
摘要 |
一种用于光学投影系统中的M×N薄膜致动反射镜阵列包括一有源矩阵(52)、一M×N弹性部件(54)的阵列、一M×N对致动机构(59)的阵列、一M×N反射镜(62)的阵列及M×N对支持部件(60)的阵列。各弹性部件(54)具有一远端及一近端,该近端包括一第一及第二接头部分,该第一及第二接头部分由它们之间的一缩入所分开,该远端包括一凸出。该凸出从各弹性部件延伸入该阵列内一接连弹性部件的缩入内。各致动机构(57)分别位于各弹性部件(54)上的第一及第二接头部分上,其中各致动机构包括一偏置电极。一信号电极及它们之间的一运动感应层。各反射镜(51)形成在弹性部件(54)的顶上。各对支持部件(60)被用于将各弹性部件(54)固定就位。当该对致动机构(57)响应一电信号而发生变形时,该轮动机构(5)所附着的在该弹性部件(54)上的该第一及第二接头部分发生倾斜,而该弹性部件的其余部分,及形成在其顶上的反射镜保持为平的,从而允许所有反射镜反射光束。 |
申请公布号 |
CN1074226C |
申请公布日期 |
2001.10.31 |
申请号 |
CN95192032.4 |
申请日期 |
1995.03.02 |
申请人 |
大宇电子株式会社 |
发明人 |
池政范;闵雇基 |
分类号 |
H04N9/31;H04N5/74;G02B26/08;H01L27/20 |
主分类号 |
H04N9/31 |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
蹇炜 |
主权项 |
1、一种用于光学投影系统中的M×N薄膜致动反射镜阵列,其中M及N为整数,所述阵列包括:一有源矩阵,包括一基底、一M×N晶体管阵列及一M×N对连接端子阵列,其中各对中的连接端子被电连接至各晶体管:一M×N弹性部件阵列,各弹性部件具有一远端和一近端,及一顶表面和一底表面,该近端包括一第一接头及一第二接头部分,该第一接头及第二接头部分由它们之间的一凹陷部分所分开,该远端包括一凸起部分,其中该凸起部分从各种弹性部件延伸入阵列中一接连弹性部件的凹陷部分内;一M×N对致动机构阵列,各对致动机构分别位于各弹性部件上的第一及第二接头部分上,各致动机构包括一偏置电极、一运动感应薄膜层及一信号电极,该偏置电极和信号电极分别位于该运动感应薄膜层的顶上和底上,该偏置电极由导电、反光材料制成,各对中各致动机构内的信号电极被电连接至该有源矩阵中一相同的晶体管,其中在各致动机构中的偏置电极和信号电极之间的运动感应薄膜层上施加的电信号致使该运动感应薄膜层发生变形,并因此使所述各致动机构发生变形;一M×N对支持部件阵列,各对支持部件被用于将各弹性部件固定就位,其中各弹性部件中的第一及第二接头部分被分别固定至各对中的各支持部件上;一M×N反射镜阵列,用于反射光束,各反射镜形成在弹性部件的顶表面上,各反射镜由与偏置电极相同的材料制成,以使当该对致动机构响应电信号而变形时,该致动机构附着于其的该弹性部件上的第一和第二接头部分发生倾斜而弹性部件的其余部分保持为平的,因此形成在其顶上的反射镜保持为平的,从而允许所有的反射镜反射光束。 |
地址 |
韩国汉城 |