| 发明名称 | 具有微调游标的光掩模 | ||
| 摘要 | 一种光掩模包括：一模区域和一限定模区域的划线区域；一用于测量自动图形套准的第一图形；一用于测量分步重复曝光系统的分辨率和聚焦的第二图形，其中第二图形包括由矩形方框构成的分辨率线条；一用于测量视觉图形套准的第三图形，其中，在划线之内限定一预定的区域，其中，第一，第二和第三图形形成在预定的区域内；第一图形为方框形图形，其投射在晶片的一位置，第二图形与第一图形相邻，第三图形包括多组，每组具有多个小方框图形；并且第一、第二和第三图形构成用于在半导体器件生产中测量各种特性的微调游标。本发明容易确保各种图形和微调游标所需的足够位置，并有效地利用划线，从而提高器件的集成度。 | ||
| 申请公布号 | CN1074165C | 申请公布日期 | 2001.10.31 |
| 申请号 | CN95102701.8 | 申请日期 | 1995.03.20 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 黄俊 |
| 分类号 | H01L21/66 | 主分类号 | H01L21/66 |
| 代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 马涛 |
| 主权项 | 1、一种光掩模，其包括：一模区域和一限定模区域的划线区域；一用于测量自动图形套准的第一图形；一用于测量分步重复曝光系统的分辨率和聚焦的第二图形，其中第二图形为由矩形方框构成的分辨率线条；一用于测量视觉图形套准的第三图形，其特征在于，在划线之内限定一预定的区域，其中，第一，第二和第三图形形成在所述预定的区域内；第一图形为方框形图形，其投射在晶片的一位置，第二图形与第一图形相邻，第三图形包括多组，每组具有多个小方框图形；并且第一、第二和第三图形构成用于在半导体器件生产中测量各种特性的微调游标。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||