发明名称 | 纳米光-热伏电池及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种纳米光-热伏电池,包括半导体衬底、扩散层、高渗杂扩散层、电极、离子注入层。离子注入层夹在衬底与高渗杂扩散层之间,形成两个PN结。高渗杂扩散层覆盖离子注入层,使其厚度在1nm-100nm之间。同时本发明还给出了该电池的制备方法,包括氧化、光刻、扩散、离子注入、低压真空化学淀积、蒸铝等步骤。本发明真正实现了将太阳光能、辐射热能以及光电转换过程中的热能均转换成电能,因此转换效率大大提高,性价比产生了飞跃,可以工业化生产。 | ||
申请公布号 | CN1319898A | 申请公布日期 | 2001.10.31 |
申请号 | CN01113515.8 | 申请日期 | 2001.04.11 |
申请人 | 陈钟谋 | 发明人 | 陈钟谋 |
分类号 | H01L31/068;H01L31/18;H01L35/00 | 主分类号 | H01L31/068 |
代理机构 | 江苏省专利事务所 | 代理人 | 何朝旭 |
主权项 | 1.一种纳米光-热伏电池,包括半导体衬底、扩散层、高渗杂扩散层,以及分别从衬底和高渗杂扩散层引出的电极,其特征在于:还含有离子注入层,所述离子注入层夹在衬底与高渗杂扩散层之间,形成两个PN结,所述离子注入层为高渗杂扩散层覆盖,厚度在1nm-100nm之间。 | ||
地址 | 210016江苏省南京市中山东路524号55所 |