发明名称 纳米光-热伏电池及其制备方法
摘要 本发明公开了一种纳米光-热伏电池,包括半导体衬底、扩散层、高渗杂扩散层、电极、离子注入层。离子注入层夹在衬底与高渗杂扩散层之间,形成两个PN结。高渗杂扩散层覆盖离子注入层,使其厚度在1nm-100nm之间。同时本发明还给出了该电池的制备方法,包括氧化、光刻、扩散、离子注入、低压真空化学淀积、蒸铝等步骤。本发明真正实现了将太阳光能、辐射热能以及光电转换过程中的热能均转换成电能,因此转换效率大大提高,性价比产生了飞跃,可以工业化生产。
申请公布号 CN1319898A 申请公布日期 2001.10.31
申请号 CN01113515.8 申请日期 2001.04.11
申请人 陈钟谋 发明人 陈钟谋
分类号 H01L31/068;H01L31/18;H01L35/00 主分类号 H01L31/068
代理机构 江苏省专利事务所 代理人 何朝旭
主权项 1.一种纳米光-热伏电池,包括半导体衬底、扩散层、高渗杂扩散层,以及分别从衬底和高渗杂扩散层引出的电极,其特征在于:还含有离子注入层,所述离子注入层夹在衬底与高渗杂扩散层之间,形成两个PN结,所述离子注入层为高渗杂扩散层覆盖,厚度在1nm-100nm之间。
地址 210016江苏省南京市中山东路524号55所