发明名称 | 旋转斜细光束的薄透明层厚度的干涉测量方法及其装置 | ||
摘要 | 本发明属于干涉法测量技术领域,本发明包括以下步骤:1)将一细光束斜入射待测点处;2)旋转所说光束改变入射角为θ#-[itn];3)记录出一系列干涉光强极值所对应的斜入射角θ#-[itn];4)利用干涉极值条件方程计算出薄透明层厚度d。该方法不但使测量的分辨率和精密度有较大的提高,避免或降低了测量信号中的直流成分和其他干扰信号的影响,而且使其测量装置结构简单,可选用价格较低的部件,体积小,重量轻,利于在线测量。 | ||
申请公布号 | CN1074120C | 申请公布日期 | 2001.10.31 |
申请号 | CN96105188.4 | 申请日期 | 1996.05.31 |
申请人 | 清华大学 | 发明人 | 朱鹤年;张百哲 |
分类号 | G01B11/06 | 主分类号 | G01B11/06 |
代理机构 | 北京清亦华专利事务所 | 代理人 | 廖元秋 |
主权项 | 1、一种旋转斜细光束的薄透明层厚度的干涉测量方法,其特征在于包括以下步骤:1)将一细光束以入射角为θi斜入射至透明层的待测点处;2)旋转所说光束改变入射角为θitn并使待测点位置基本不变;3)接收从待测点处反射的干涉光束,记录出一系列干涉光强极值所对应的斜入射角θitn;4)利用干涉极值条件方程计算出薄透明层厚度d;所说的待测点光束直径ω与最小斜入射θmin满足不等式:<math> <mrow> <msub> <mi>θ</mi> <mi>min</mi> </msub> <mo>></mo> <mfrac> <mrow> <mn>0.6</mn> <mi>ω</mi> <mo>·</mo> <msub> <mi>n</mi> <mi>D</mi> </msub> </mrow> <mi>D</mi> </mfrac> </mrow> </math> ,其中nD为薄层上表面外材料的折射率,D为被测薄层外的两厚透明层中较薄部分的厚度。 | ||
地址 | 100084北京市海淀区清华园 |