发明名称 |
Aplicação de um plasmatrão atmosférico indiretopara o tratamento superficial ou revestimento demateriais em forma de faixa, bem como um processopara o tratamento ou revestimento de materiaisem forma de faixa |
摘要 |
Patente de Invenção: "APLICAçãO DE UM PLASMATRãOATMOSFéRICO INDIRETO PARA O TRATAMENTOSUPERFICIAL OU REVESTIMENTO DE MATERIAIS EM FORMADE FAIXA, BEM COMO UM PROCESSO PARA O TRATAMENTOOU REVESTIMENTO DE MATERIAIS EM FORMA DE FAIXA".Aplicação de um plasmatrão atmosférico indireto para o tratamentosuperficial, total ou parcialmente plano homogêneo ou para orevestimento de materiais metálicos em forma de faixa com umaespessura menor do que 100 <109>m ou materiais polímeros emforma de faixa. Além disso, é descrito um processo para otratamento superficial de materiais em forma de faixa, no qual éaplicado um plasmatrão atmosférico indireto.
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申请公布号 |
BR0100938(A) |
申请公布日期 |
2001.10.30 |
申请号 |
BR20010000938 |
申请日期 |
2001.03.08 |
申请人 |
WOLFF WALSRODE AG |
发明人 |
CHRISTIAN KUCKERTZ;SVEN JACOBSEN;RAINER BRANDT;KLAUS LANDES;ALF HARTMANN |
分类号 |
C08J7/00;B05D3/14;B29C59/14;C23C4/00;C23C8/36;C23C16/50;H05H1/34;(IPC1-7):B29C71/00 |
主分类号 |
C08J7/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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