首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 RF PLASMA ETCH REACTOR WITH INTERNAL INDUCTIVE COIL ANTENNA AND ELECTRICALLY CONDUCTIVE CHAMBER WALLS
摘要
申请公布号 EP1147544(A2) 申请公布日期 2001.10.24
申请号 EP19990949748 申请日期 1999.09.21
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 YE, YAN;OLGADO, DONALD;KUMAR, ANANDA, H.;MOK, YEUK-FAI;D'AMBRA, ALLEN;TEPMAN, AVI;MA, DIANA;YIN, GERALD;LOEWENHARDT, PETER;HWANG, JENG;MAK, STEVE
分类号 H05H1/46;B01J19/08;H01J27/16;H01J37/08;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com