发明名称 Metal complexes with chelating C-,N-donor ligands for forming metal-containing films
摘要 A method of forming a film on a substrate using transition metal or lanthanide complexes. The complexes and methods are particularly suitable for the preparation of semiconductor structures using chemical vapor deposition techniques and systems.
申请公布号 US6306217(B1) 申请公布日期 2001.10.23
申请号 US20000650601 申请日期 2000.08.30
申请人 MICRON TECHNOLOGY, INC. 发明人 UHLENBROCK STEFAN;VAARTSTRA BRIAN A.
分类号 C23C16/18;(IPC1-7):C23C16/00 主分类号 C23C16/18
代理机构 代理人
主权项
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