| 发明名称 |
Method and apparatus for temperature controlled vapor deposition on a substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU5060401(A) |
申请公布日期 |
2001.10.23 |
| 申请号 |
AU20010050604 |
申请日期 |
2001.04.05 |
| 申请人 |
ACKTAR LTD. |
发明人 |
DINA KATSIR;ZVI FINKELSTEIN;ISRAEL TARTAKOVSKY |
| 分类号 |
C23C16/46;B05D1/00;B05D5/00;C23C14/54;C23C14/56;C23C16/00;C23C16/54;(IPC1-7):B05D1/00 |
主分类号 |
C23C16/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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