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发明名称 Trocken-Ätz-Verfahren für eine Silizium-Dünnschicht
摘要
申请公布号 DE69330241(T2) 申请公布日期 2001.10.18
申请号 DE19936030241T 申请日期 1993.11.25
申请人 SHARP K.K., OSAKA 发明人 SAKURAI, TAKEHISA;UJIMASA, HITOSHI;KAWAI, KATSUHIRO;BAN,ATSUSHI;KAJITANI, MASARU;KATAYAMA, MIKIO
分类号 G02F1/13;G02F1/136;G02F1/1368;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3213;H01L21/336;H01L29/78;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/321 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人
主权项
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