| 发明名称 |
Sealing of pores in structural components, especially of plasma reactors for the manufacture and processing of semiconductor wafers, with a polyimide |
| 摘要 |
Sealing of pores in structural components or their protective surface coatings comprises sealing the pores with a polyimide.
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| 申请公布号 |
DE10014587(A1) |
申请公布日期 |
2001.10.18 |
| 申请号 |
DE20001014587 |
申请日期 |
2000.03.27 |
| 申请人 |
VENTEC GESELLSCHAFT FUER VENTUREKAPITAL UND UNTERNEHMENSBERATUNG |
发明人 |
ARIT, JOACHIM;BUSSE, KARL-HERMANN;WALTHER, RALF;RICHTER, RUEDIGER |
| 分类号 |
C09J179/08;H01J37/32;(IPC1-7):C09D179/08;C08J7/04;C08L79/08;C08G73/10 |
主分类号 |
C09J179/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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