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<p>L'invention concerne un oxyde de silicium sur un substrat que l'on peut graver en mettant le substrat dans une chambre de traitement, en faisant le vide dans la chambre à une pression inférieure à environ 1 torr; en y apportant à la chambre ainsi qu'au substrat un mélange gazeux comprenant un gaz inerte, un alcool et de l'eau et, par la suite, en apportant au mélange gazeux fourni à la chambre de traitement et au substrat, un élément chimique contenant du halogène anhydre gazeux.</p> |
