发明名称 Trench capacitor and method of making the same
摘要 <p>Die vorliegende Erfindung betrifft einen Grabenkondensator (160) sowie ein dazugehöriges Herstellungsverfahren, wobei ein Isolationskragen (168) derart nicht konform im oberen Bereich eines Grabens (108) ausgebildet ist, dass eine Schichtdicke (do) in einem oberen Abschnitt des Isolationskragens (168) größer ist als eine Schichtdicke (du) in einem unteren Abschnitt des Isolationskragens. Dadurch erhält man einen Grabenkondensator (160) mit verbesserten Leckstromeigenschaften sowie einen vereinfachten sowie kostengünstigen Prozess zum Ausbilden des Isolationskragens (168). &lt;IMAGE&gt;</p>
申请公布号 EP1146557(A2) 申请公布日期 2001.10.17
申请号 EP20010106756 申请日期 2001.03.17
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 SCHREMS, MARTIN, DR.
分类号 H01L21/8242;(IPC1-7):H01L21/824;H01L21/033 主分类号 H01L21/8242
代理机构 代理人
主权项
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