ENHANCED PLASMA MODE, METHOD, AND SYSTEM FOR PLASMA IMMERSION ION IMPLANTATION,申请号EP19990960595-传众专利搜索

发明名称	ENHANCED PLASMA MODE, METHOD, AND SYSTEM FOR PLASMA IMMERSION ION IMPLANTATION
摘要
申请公布号	EP1144717(A1)	申请公布日期	2001.10.17
申请号	EP19990960595	申请日期	1999.11.23
申请人	SILICON GENESIS CORPORATION	发明人	LIU, WEI;ROTH, IAN, S.;BRYAN, MICHAEL, A.
分类号	H05H1/46;B01J19/08;C23C14/48;H01J37/32;(IPC1-7):C23C16/00	主分类号	H05H1/46
代理机构		代理人
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