发明名称 PROCESS DEVICE FOR DIFFUSING SEMICONDUCTOR
摘要 <p>본 발명은 반도체 확산 공정장치에 관한 것으로, 종래 반도체 확산 공정장치는 플로우 메터에 소량의 냉각수를 사용하는 기능부에 사용하는 냉각수의 양과 별차이가 없는 알람 설정치를 사용하여, 순간적인 냉각수 유입문제에도 반응하여 공정의 진행을 중단함으로써, 공정이 진행중이던 시료에 손상을 주거나, 시료를 오염시키는 문제점이 있었다. 이와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 확산로 내의 온도분위기를 고온으로 유지하며, 각 기능부에 냉각수를 공급함과 아울러 상기 각 기능부에 유입되는 냉각수의 양을 측정하고, 그 측정치가 설정치 이하이면 알람을 발생시킴과 아울러 공정의 진행을 중지시키는 출력신호를 발생하는 플로우 메터를 포함하는 반도체 확산 공정장치에 있어서, 상기 각 플로우 메터중 상대적으로 적은 양의 냉각수를 사용하는 기능부에 유입되는 냉각수의 양을 측정하는 플로우 메터의 후단에서 설정된 시간동안 상기 플로우 메터의 출력신호가 냉각수 유입이상인 것으로 계속적으로 입력될때, 릴레이의 접점을 변환하여 제어부에 상기 플로우 메터의 신호를 인가하여 알람을 발생시키고, 공정의 진행을 중지시키는 타이머를 더 포함하여 빠른 시간내에 정상으로 회복되는 냉각수의 순간적인 유입이상에는 공정의 진행을 중지시키지 않음으로써, 공정의 안정성을 확보함과 아울러 공정이 진행중인 시료가 오염되거나 손상되는 것을 방지하는 효과가 있다.</p>
申请公布号 KR100307543(B1) 申请公布日期 2001.10.17
申请号 KR19990061989 申请日期 1999.12.24
申请人 null, null 发明人 최수혁
分类号 H01L21/22 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
主权项
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